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J-GLOBAL ID：201002271478111394   整理番号：10A0821655

マイクロプラズマによるシリコンナノ粒子合成

著者 (1件)： 野崎智洋 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： 高温学会誌  (Journal of High Temperature Society)
巻： 36  号： 4  ページ： 168-173  発行年： 2010年07月20日 
JST資料番号： F0907B  ISSN： 0387-1096  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 種々のマイクロデバイス用材料として期待されているシリコンナノ粒子(SiNP)を,微小領域でのプラズマ(マイクロプラズマ)を利用して製造する技術について解説した。初めに,マイクロプラズマの定義について説明し,電極間距離が短いほど絶縁破壊電圧は低下することを示した。次に,SiNPがナノサイズになると量子効果が発現することを述べ,その狙いのためにマイクロプラズマを利用してSiNPを合成することについて,著者の実験例を示した。装置の概要と実験条件を示し,得たSiNPについてのRaman分光分析,微細構造のTEM観察および光ルミネセンス評価結果を示した。最後に,このSiNPの応用分野として次世代太陽電池を挙げ,その可能性を示唆した。

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ナノ粒子 ,  微細構造 ,  光ルミネセンス ,  *プラズマ曝露 ,  マイクロプラズマ

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

引用文献 (12件)：

• 1) 橘邦英ら、マイクロプラズマ: 基礎と応用、オーム社、(2009).
• 2) 橘邦英ら、マイクロ・ナノプラズマ技術とその産業応用、シーエムシー出版、(2006).
• 3) 橘邦英、応用物理、75 (4), (2006), 399.
• 4) Iza, F. et al., Plasma Process. Polym., 5, (2008), 322.
• 5) Becker, K. H., Schoenbach, K. H., Eden, J. G., J. Phys. D: Appl. Phys. 39, (2006), R55.

タイトルに関連する用語 (3件)： マイクロプラズマ ,  シリコン ,  ナノ粒子合成