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J-GLOBAL ID：201002272173937922   整理番号：10A0579931

籠型シルセスキオキサン(POSS)含有高分子膜の合成とそのCO₂収着特性

著者 (7件)： 冨田裕子 (明治大 理工) ,  大輪州永 (明治大 理工) ,  武尾一興 (明治大 理工) ,  川北啓史 (明治大 理工) ,  佐藤修一 (明治大 理工) ,  兼橋真二 (明治大 理工) ,  永井一清 (明治大 理工)
資料名： 日本膜学会年会講演要旨集
巻： 32nd  ページ： 70  発行年： 2010年05月01日 
JST資料番号： L1215A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 二酸化炭素 ,  *高分子吸着剤 ,  高分子膜 ,  *ポリシルセスキオキサン ,  クラスタ分子 ,  包接化合物 ,  超分子構造 ,  ラジカル重合 ,  吸着等温式 ,  吸着平衡 ,  ガラス転移点 ,  Langmuir膜 ,  透気性 ,  *高分子有機-無機ハイブリッド ,  かご構造 ,  液相重合 ,  多面体オリゴシルスセスキオキサン ,  単分子層
準シソーラス用語： 溶液重合 ,  POSS【オリゴマ】

分類 (4件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  その他の高分子材料  (YH07150C) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  共重合  (CG04030D)

タイトルに関連する用語 (5件)： 籠型シルセスキオキサン ,  POSS ,  高分子膜 ,  CO2 ,  収着