文献

J-GLOBAL ID：201002272243952754   整理番号：10A0211543

ロタキサン構造を鍵とする架橋構造の速度論的安定化とリサイクル特性

著者 (4件)： 高坂泰弘 (東京工大 大学院) ,  中薗和子 (東京工大 大学院) ,  小山靖人 (東京工大 大学院) ,  高田十志和 (東京工大 大学院)
資料名： エラストマー討論会講演要旨集
巻： 21st  ページ： 7-8  発行年： 2009年12月03日 
JST資料番号： L1400A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ロタキサン ,  *架橋【高分子】 ,  *超分子構造 ,  *ネットワーク構造 ,  末端基 ,  分子サイズ ,  分解反応 ,  *リサイクル ,  *再利用 ,  安定性 ,  反応速度論 ,  構造安定性 ,  *利用

分類 (2件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  シクロファン,カテナン,ロタキサン,カリキサレン,ノット(三つ葉結び目)  (CF06120M)

タイトルに関連する用語 (6件)： ロタキサン ,  鍵 ,  架橋構造 ,  速度論 ,  安定化 ,  リサイクル