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J-GLOBAL ID：201002284611918179   整理番号：10A0029850

マイクロプラズマによるシリコン量子ドットの低温・大量合成

Low temperature microplasma synthesis of silicon quantum dot in macroscopic quantity

著者 (3件)： 野崎智洋 (東京工大 大学院) ,  鐘ケ江俊輔 (東京工大 大学院) ,  岡崎健 (東京工大 大学院)
資料名： 日本機械学会熱工学コンファレンス講演論文集  (Proceedings of Thermal Engineering Conference)
巻： 2009  ページ： 91-92  発行年： 2009年11月06日 
JST資料番号： L0417A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： マイクロプラズマと呼ばれるユニークな反応性プラズマを用いた新しい粒子合成法を開発し,粒径3~5nmのシリコンナノ粒子を収量40-100mg/hで連続気相合成することに成功した。プラズマの電力を増加させるほど,また水素濃度を増加させるほど,ナノ粒子の結晶性が向上することを実験的に明らかにした。(著者抄録)

シソーラス用語： 量子ドット ,  ナノ粒子 ,  *合成 ,  水素 ,  プラズマ ,  *マイクロプラズマ ,  *シリコンナノ粒子 ,  反応性プラズマ
準シソーラス用語： シリコン量子ドット ,  粒子合成法

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (4件)： マイクロプラズマ ,  シリコン ,  量子ドット ,  低温