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J-GLOBAL ID：201002284667599068   整理番号：10A0591116

溶媒キャストフィルムの成膜過程における残留応力発現メカニズム

著者 (4件)： 勝又麗香 (東京工大 大学院) ,  阿多誠介 (東京工大 大学院) ,  久保山敬一 (東京工大 大学院) ,  扇澤敏明 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 59  号： 1 Disk1  ページ： ROMBUNNO.1PD036  発行年： 2010年05月11日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *残留応力 ,  *残留歪 ,  *プラスチックフィルム ,  *流延成形 ,  溶媒 ,  蒸発 ,  高分子薄膜 ,  機構 ,  ポリスチレン ,  アルキルベンゼン ,  活性化エネルギー ,  ガラス転移点 ,  高分子鎖 ,  運動性 ,  応力緩和 ,  *キャストフィルム ,  発現機序
準シソーラス用語： 発現機構

分類 (3件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  その他の成形  (YH04090Q) ,  ゴム・プラスチック材料  (HC02030I)

物質索引 (1件)： トルエン

タイトルに関連する用語 (6件)： 溶媒 ,  キャストフィルム ,  成膜 ,  過程 ,  残留応力 ,  メカニズム