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J-GLOBAL ID：201102201211741282   整理番号：11A1489884

反応性パルスレーザーアブレーション法によるIn_0.9Ni_0.1TaO₄とNiO_Xの複合ナノ構造体の作製

著者 (6件)： 松本啓志 (甲南大 理工) ,  豊山博一 (甲南大 理工) ,  田中潤 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 理工) ,  杉村陽 (甲南大 理工) ,  吉田岳人 (阿南工高専)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 72nd  ページ： ROMBUNNO.1A-B-12  発行年： 2011年08月16日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *レーザアブレーション ,  助触媒 ,  光触媒 ,  *ナノ複合材料 ,  *タンタル酸塩 ,  インジウム化合物 ,  ニッケル化合物 ,  *酸化ニッケル ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  Nd-YAGレーザ ,  パルスレーザアブレーション

分類 (1件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 反応性 ,  パルスレーザーアブレーション法 ,  ナノ構造体 ,  作製