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J-GLOBAL ID：201102223370393035   整理番号：11A0993181

左右対称な軸成分を有する[2]ロタキサンにおける不斉発現

著者 (4件)： 石割文崇 (東京工大 大学院) ,  中薗和子 (東京工大 大学院) ,  小山靖人 (東京工大 大学院) ,  高田十志和 (東京工大 大学院)
資料名： シンポジウム「モレキュラー・キラリティー」講演要旨集  (シンポジウム モレキュラー・キラリティー要旨集)
巻： 2011  ページ： (JA)52,(EN)51  発行年： 2011年05月20日 
JST資料番号： L2525A  ISSN： 1881-0861  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ロタキサン ,  *光学異性 ,  第二アミン ,  塩 ,  対称分子 ,  アシル化 ,  光学分割 ,  不斉合成

分類 (1件)： 分子化合物  (CE02000C)

物質索引 (3件)： 2-(4-エチニルベンゾイルアミノ)-6,7,9,10,12,13,20,21,23,24,26,27-ドデカヒドロジベンゾ[b,n][1,4,7,10,13,16,19,22]オクタオキサシクロテトラコシン ,  ビス[4-(3,5-ジメチルベンゾイルオキシメチル)ベンジル]アミニウム・ヘキサフルオロホスファート ,  N,N-ビス[4-(3,5-ジメチルベンゾイルオキシメチル)ベンジル]-4-tert-ブチルベンズアミド

タイトルに関連する用語 (2件)： 左右対称 ,  ロタキサン