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J-GLOBAL ID：201102261268431509   整理番号：11A0736664

ダミーメタル面積占有率による伝搬損失への影響の評価

著者 (5件)： 小野雄也 (東京工大) ,  平野拓一 (東京工大) ,  岡田健一 (東京工大) ,  広川二郎 (東京工大) ,  安藤真 (東京工大)
資料名： 電子情報通信学会大会講演論文集  (電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集)
巻： 2011  号： エレクトロニクス1  ページ： 81  発行年： 2011年02月28日 
JST資料番号： G0508A  ISSN： 1349-1369  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ダミーメタル入り伝送線路におけるダミーメタル面積占有率の伝搬特性に与える影響を検討した。今後,ダミーメタルの影響を最小にする伝送線路のダミーメタル配置を検討していく予定である。(著者抄録)

シソーラス用語： *伝送損失 ,  *マイクロストリップ線路 ,  ケイ素 ,  CMOS構造 ,  *電磁場解析 ,  *化学研磨 ,  *均一性 ,  シミュレーションモデル ,  伝搬特性 ,  解析モデル ,  占有率 ,  *金属 ,  化学機械研磨 ,  MOS構造 ,  *機械工作
準シソーラス用語： CMP【化学研磨】 ,  面内一様性 ,  面積占有率 ,  ダミーメタル

分類 (1件)： 伝送線  (NC04030C)

タイトルに関連する用語 (6件)： ダミー ,  メタル ,  面積 ,  占有率 ,  伝搬損失 ,  影響の評価