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J-GLOBAL ID：201102261905624537   整理番号：11A1164151

液中プラズマ化学蒸着における基板熱膨張のダイヤモンドの生成への影響

著者 (3件)： 豊田洋通 (愛媛大) ,  野村信福 (愛媛大) ,  向笠忍 (愛媛大)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
巻： 48th  ページ： ROMBUNNO.I232  発行年： 2011年 
JST資料番号： F0872D  ISSN： 1346-1532  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 液中プラズマ化学蒸着法におけるダイヤモンドの生成には,基板の材質や基板の表面処理方法が重要である。本研究では基板の材質や表面処理方法を変化させ,液中プラズマ化学蒸着法における適切な基板の材質と表面処理方法の実験を行った。適切な基板の材質と表面処理方法はSiにダイヤモンドパウダーを用いて研磨を行った基板が良好な結果が得られた。また,実験に用いた基板の温度における線膨張係数を比較し,ダイヤが成膜できた基板ではダイヤモンドの線膨張係数の曲線に近いことが分かった。またSiがダイヤモンドの線膨張係数の曲線に最も近似しており最適だと考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： 位置 ,  基板 ,  熱膨張 ,  *ダイヤモンド ,  *表面処理 ,  膨張係数 ,  薄膜成長 ,  *プラズマCVD ,  液中 ,  *鉱石 ,  *宝石
準シソーラス用語： プラズマ促進化学蒸着

分類 (3件)： 気相めっき  (WC08022K) ,  結晶成長技術・装置  (BK13020B) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 液中プラズマ ,  化学蒸着 ,  熱膨張 ,  ダイヤモンド