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J-GLOBAL ID：201102276884128850   整理番号：11A0789144

NiOの水素還元によるNi/Al₂O₃完全整合エピタキシャル薄膜およびMgO薄膜内Niナノグラニュラー構造の作製と磁性評価

著者 (13件)： 山内涼輔 (東京工大) ,  加藤侑志 (東京工大) ,  笹川崇男 (東京工大) ,  北本仁孝 (東京工大) ,  荒井秀樹 (東京工大) ,  土嶺信男 (豊島製作所) ,  小林晋 (豊島製作所) ,  小山浩司 (並木精密宝石) ,  鈴木利昌 (太陽誘電) ,  小林圭介 (太陽誘電) ,  金子智 (神奈川産技セ) ,  木口賢紀 (東北大 金属材料研) ,  吉本護 (東京工大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集
巻： 2011  ページ： 162  発行年： 2011年03月16日 
JST資料番号： X0505A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化ニッケル ,  *酸化アルミニウム ,  レーザ蒸着 ,  エピタクシー ,  *蒸着膜 ,  基板 ,  *αアルミナ ,  ターゲット ,  還元 ,  水素 ,  酸化物 ,  マグネシウム化合物 ,  ニッケル化合物 ,  固溶体 ,  薄膜 ,  磁性 ,  *磁気ヒステリシス ,  パルスレーザ蒸着 ,  *グラニュラー薄膜 ,  *水素還元
準シソーラス用語： PLD【蒸着】 ,  *エピタキシャル成長

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (11件)： NiO ,  水素還元 ,  Ni ,  Al2O3 ,  整合 ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  MgO ,  作製 ,  磁性 ,  評価