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J-GLOBAL ID：201102284712488997   整理番号：11A0912229

キラル表面上に作製したポリジアセチレン膜の評価

Investigation of Poly (diacetylene) Film Prepared on Chiral Surface

著者 (5件)： 金英輝 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  篠竜徳 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  大嶋優記 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  間中孝彰 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  岩本光正 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 111  号： 4(SDM2011 1-13)  ページ： 5-8  発行年： 2011年04月08日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ガラス上に作製したジアセチレン(DA)膜に円偏光照射を施すと,光重合過程を経てキラルなポリジアセチレン(PDA)膜が作製できる。このキラル化技術を用いても,マクロな観測では偏光の違いでその結晶構造に違いはなく,数10μm程度の多数のドメインが膜内に確認されている。一方,メントールポリマー(pMn)を下層とした際,無偏光による重合後に高複屈折な球晶状の構造が偏光顕微鏡を用いて確認された。さらに,下層のキラリティーの有無により,上層PDA膜に異なる屈折率異方性を誘起できることがわかった。(著者抄録)

シソーラス用語： *ポリジアセチレン ,  膜 ,  表面 ,  カイラル対称性 ,  円偏光 ,  *照射 ,  光重合 ,  *結晶構造 ,  重合体 ,  屈折率 ,  異方性 ,  偏光顕微鏡 ,  キラリティ
準シソーラス用語： カイラル性 ,  カイラル表面 ,  *ポリジアセチレン膜 ,  メントールポリマ ,  *円偏光照射 ,  屈折率異方性

分類 (3件)： 気体燃料の性質,組成,分析,試験  (YE02020U) ,  光化学一般  (CB08010U) ,  結晶学一般  (BK05010Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： キラル ,  作製 ,  ポリジアセチレン ,  評価