特許

J-GLOBAL ID：201103014344421638

金属修飾アパタイト及びその製造方法

発明者： 若村 正人 ,  渡部 俊也 ,  橋本 和仁
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  株式会社東京大学TLO
代理人 (4件)： 石田 敬 ,  吉田 維夫 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-070805
公開番号（公開出願番号）：特開2005-200302
特許番号：特許第4224598号
出願日： 2005年03月14日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 アパタイト結晶を構成するカルシウムの一部が、チタンで置換されていることを特徴とする金属修飾アパタイト。

IPC (4件)：

C01B 25/45 ( 200 6.01) ,  B01J 27/18 ( 200 6.01) ,  B01J 35/02 ( 200 6.01) ,  C01B 25/32 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C01B 25/45 H ,  B01J 27/18 M ,  B01J 35/02 J ,  C01B 25/32 P

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 紫外線吸収剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-205543   出願人：日本化学工業株式会社
• 防錆顔料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-216488   出願人：日本化学工業株式会社
• リン酸カルシウム系複合材及び同材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-309524   出願人：株式会社アドバンス
• 環境浄化材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-063867   出願人：工業技術院長, ジェイ・エム・イー株式会社, 垰田博史, 野浪亨
• リン酸塩系抗菌剤およびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-350449   出願人：日本化学工業株式会社, 株式会社サンギ
• ヒドロキシアパタイト多孔体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-082193   出願人：東亞合成株式会社