特許
J-GLOBAL ID：201103070060418685
光反応性薄膜加工法並びに光反応性薄膜加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉井 剛
, 吉井 雅栄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-089637
公開番号（公開出願番号）：特開2005-313315
特許番号：特許第4082619号
出願日： 2005年03月25日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 プリズム表面における二つのレーザー光の全反射による二つのエバネッセント波の干渉で形成された合成表面電磁場を用いて、プリズム表面に直接若しくは近接させて配置した光反応性薄膜を加工する方法において、前記光反応性薄膜の表面上に走査型プローブ顕微鏡のプローブを配置して、光の半波長以下の領域において加工中の薄膜の空間的構造、または磁気特性、光学特性若しくは電気伝導特性をその場で加工の前後あるいは加工と同時に観測し、この観測した前記走査型プローブ顕微鏡の信号に基づいて前記レーザー光を制御することによって前記構造または前記特性を制御して光反応性薄膜を加工することを特徴とする光反応性薄膜加工法。
IPC (4件)：
B82B 3/00 ( 200 6.01)
, B01J 19/12 ( 200 6.01)
, G02B 5/18 ( 200 6.01)
, G02B 5/32 ( 200 6.01)
B82B 3/00
, B01J 19/12 B
, G02B 5/18
, G02B 5/32
