特許

J-GLOBAL ID：201103080434594674

SHG素子用シリカガラスおよびその製造方法

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発明者： 森永 健次 ,  武部 博倫 ,  竹内 哲彦 ,  鍬崎 尚哉 ,  河野 充
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  宮坂 一彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090736
公開番号（公開出願番号）：特開平9-281534
特許番号：特許第3924803号
出願日： 1996年04月12日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 シリコンアルコキシド、あるいはシリコンアルコキシドおよびシリカ微粒子を主原料とするゾルーゲル法により製造されるシリカガラスであって、 前記シリカガラスが、炭素を340〜600ppm含有し、OH基を含有し、且つ2次の非線形光学定数が4.5pm/V以上となるようにポーリング処理してなることを特徴とするSHG素子用シリカガラス。

IPC (2件)：

G02F 1/355 ( 200 6.01) ,  G02F 1/37 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G02F 1/355 501 ,  G02F 1/37

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 非線形光学シリカガラスおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-123226   出願人：信越石英株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• J.Opt.Soc.Am.B, 1995, Vol.12,No.4, 644-649