特許
J-GLOBAL ID：201103092147144810
防汚性トンネル内壁、その防汚方法および洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
伊藤 宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-212038
公開番号（公開出願番号）：特開平10-037688
特許番号：特許第3115534号
出願日： 1996年07月22日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 トンネル内壁の表面を半導体光触媒含有層で被覆してなり、前記光触媒が光励起されるに応じて前記層の表面が親水化され、もって、疎水性の汚染物質がトンネル内壁の表面に付着するのが防止されるようになっていることを特徴とする防汚性トンネル内壁。
IPC (2件)：
FI (2件)：
E21D 11/00 Z
, E01H 1/00 B
