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J-GLOBAL ID：201202204267748162   整理番号：12A1163884

イオン注入レジストの構造解析

著者 (5件)： 安形行広 (金沢工大) ,  後藤洋介 (金沢工大) ,  河野昭彦 (金沢工大) ,  高橋聖司 (金沢工大) ,  堀邊英夫 (金沢工大)
資料名： 放射線プロセスシンポジウム講演要旨・ポスター発表要旨集
巻： 14th  ページ： 80  発行年： 2012年 
JST資料番号： L1934A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *イオン注入 ,  *構造解析 ,  *フォトレジスト ,  ホウ素 ,  電子顕微鏡観察 ,  硬さ試験 ,  分子構造 ,  ノボラック ,  赤外吸収スペクトル ,  FTIRスペクトル ,  押込硬さ試験 ,  化学構造 ,  走査電子顕微鏡法
準シソーラス用語： 走査電子顕微鏡観察

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (3件)： イオン注入 ,  レジスト ,  構造解析