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J-GLOBAL ID：201202218780040460   整理番号：12A1439165

r面サファイア基板上へのZnO薄膜の大気圧CVD成長と熱処理効果

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著者 (6件)： 小倉佳典 (愛媛大 大学院) ,  寺迫智昭 (愛媛大 大学院) ,  藤本翔平 (愛媛大 大学院) ,  宮田晃 (愛媛大 工) ,  矢木正和 (香川高専) ,  白方祥 (愛媛大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.12P-PB8-10  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 基板 ,  *酸化亜鉛 ,  *化学蒸着 ,  熱処理 ,  酸化物 ,  *薄膜 ,  光ルミネセンス ,  サファイア基板 ,  酸化物薄膜 ,  *APCVD
準シソーラス用語： *大気圧化学蒸着 ,  フォトルミネセンス

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： サファイア基板 ,  ZnO薄膜 ,  大気圧 ,  CVD ,  成長 ,  熱処理