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J-GLOBAL ID：201202227429683183   整理番号：12A0546283

大気圧で動作するマイクロ放電プラズマを用いたマスクレスエッチングシステムのための最適ガス供給の研究

Studies on Optimal Gas Supply For a Maskless Etching System with Micro- Discharge Plasma Operated at Atmospheric Pressure

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著者 (3件)： HAMADA Toshiyuki (Miyazaki Prefectural Government Public Enterprise Bureau, Electricity Div., 1-2-2 Asahi, 880-0803, Miyazaki, JPN) ,  ARIMURA Takuya (Univ. of Miyazaki, Dep. of Electrical and Electronic Engineering, 1-1 Gakuenkibanadai-Nishi, 889-2192, Miyazaki, JPN) ,  SAKODA Tatsuya (Univ. of Miyazaki, Dep. of Electrical and Electronic Engineering, 1-1 Gakuenkibanadai-Nishi, 889-2192, Miyazaki, JPN)
資料名： Plasma Chemistry and Plasma Processing  (Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 32  号： 2  ページ： 325-332  発行年： 2012年04月 
JST資料番号： H0836A  ISSN： 0272-4324  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 太陽電池の表面電極の電極溝のマスクレス作製に用いるため,石英ガラス電極に沿って生成するマイクロ放電プラズマのための最適ガス供給法を調べた。ガスインレット及びアウトレットホールを有する電極システムを構築した。プラズマ領域への直接ガス供給は,エッチされる表面上で副生成物を低減するのに寄与し,マイクロ放電プラズマがエッチング領域で局所的に生成される場合,均一エッチングが行われることを確認した。Copyright 2011 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 気体放電 ,  *プラズマエッチング ,  ガス供給系 ,  太陽電池 ,  プラズマ生成 ,  マイクロ放電 ,  表面電極 ,  放電プラズマ
準シソーラス用語： *マスクレスエッチング ,  副生成物 ,  *大気圧プラズマ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 大気圧 ,  マイクロ ,  放電プラズマ ,  ガス供給 ,  研究