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J-GLOBAL ID：201202232690265635   整理番号：12A0504604

様々なトポロジカル絶縁体の単結晶合成と物性評価(II)

著者 (3件)： 山本宗平 (東京工大 応用セラミックス研) ,  加納学 (東京工大 応用セラミックス研) ,  笹川崇男 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 67  号： 1 第4分冊  ページ： 727  発行年： 2012年03月05日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *単結晶 ,  化学合成 ,  三次元 ,  電子状態 ,  ビスマス化合物 ,  アンチモン化合物 ,  テルル化物 ,  セレン化物 ,  硫化物 ,  *電気抵抗率 ,  温度依存性 ,  キャリア ,  *トポロジカル絶縁体 ,  Seebeck係数
準シソーラス用語： 物性評価 ,  輸送特性

分類 (2件)： その他の無機化合物の結晶成長  (BK13060T) ,  半導体と絶縁体の電気伝導一般  (BM03041P)

タイトルに関連する用語 (3件)： トポロジカル絶縁体 ,  単結晶 ,  物性評価