文献

J-GLOBAL ID：201202258463510070   整理番号：12A1439244

65nm標準CMOSプロセスを用いた偏光分析CMOSイメージセンサの消光比評価

著者 (11件)： 若間範充 (奈良先端科学技術大学院大) ,  岡林大恭 (奈良先端科学技術大学院大) ,  野田俊彦 (奈良先端科学技術大学院大) ,  野田俊彦 (JST-CREST) ,  笹川清隆 (奈良先端科学技術大学院大) ,  笹川清隆 (JST-CREST) ,  徳田崇 (奈良先端科学技術大学院大) ,  徳田崇 (JST-CREST) ,  垣内喜代三 (奈良先端科学技術大学院大) ,  太田淳 (奈良先端科学技術大学院大) ,  太田淳 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.13A-F7-10  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *CMOS構造 ,  半導体プロセス ,  *旋光分析 ,  *イメージセンサ ,  *消光比 ,  偏光子 ,  高感度 ,  画素 ,  半導体チップ ,  フォトダイオード ,  入射角 ,  *MOS構造
準シソーラス用語： 偏光分析

分類 (1件)： 撮像・録画装置  (ND12032E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 標準 ,  CMOSプロセス ,  偏光分析 ,  CMOSイメージセンサ ,  消光比 ,  評価