文献

J-GLOBAL ID：201202268861529606   整理番号：12A1495308

アクリルアミド製造用のルテニウム錯体触媒

クリップ

著者 (3件)： 押木俊之 (岡山大) ,  川上由起子 (岡山大) ,  村中誠 (岡山大)
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集  (触媒討論会(A)講演予稿集)
巻： 110th  ページ： 240  発行年： 2012年09月14日 
JST資料番号： S0874A  ISSN： 1343-9936  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アクリルアミドを高選択的に得るアクリロニトリル水和触媒の開発は工業的に重要である。私たちはアクリロニトリル水和用の新たなルテニウム錯体触媒を開発した。新たなルテニウム錯体触媒は,ルテニウム-シメン錯体を原料とし2級のホスフィンオキシドを作用させることにより定量的に得られる。得た触媒の構造のX線結晶構造解析により,ルテニウム単核錯体であることがわかった。(著者抄録)

シソーラス用語： カルボアミド ,  不飽和カルボン酸 ,  ルテニウム錯体 ,  *ルテニウム触媒 ,  水和物 ,  ホスフィンオキシド ,  X線構造解析 ,  分子構造 ,  *脂肪族ニトリル ,  *水和反応 ,  ホスフィン錯体 ,  アルキルベンゼン ,  単環モノテルペン ,  ビニル化合物 ,  X線結晶構造解析 ,  アクリルアミド類
準シソーラス用語： 工業用触媒

分類 (2件)： 貴金属触媒  (CB06122I) ,  脂肪族ニトリル・イソシアニド  (CF03230L)

物質索引 (4件)： p-シメン ,  アクリロニトリル ,  エトキシジフェニルホスフィン ,  ジフェニルホスフィンオキシド

タイトルに関連する用語 (3件)： アクリルアミド ,  ルテニウム ,  錯体触媒