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J-GLOBAL ID：201202283620859264   整理番号：12A0504605

磁性元素をドープした様々なトポロジカル絶縁体の単結晶合成と物性評価

著者 (5件)： 廣瀬峻啓 (東京工大 応用セラミックス研) ,  山本宗平 (東京工大 応用セラミックス研) ,  五十嵐九四郎 (東京工大 応用セラミックス研) ,  加納学 (東京工大 応用セラミックス研) ,  笹川崇男 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 67  号： 1 第4分冊  ページ： 727  発行年： 2012年03月05日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 磁性 ,  元素 ,  ドーピング ,  *単結晶 ,  化学合成 ,  鉄 ,  ビスマス化合物 ,  セレン化物 ,  キャリア密度 ,  磁化 ,  *強磁性 ,  磁気モーメント ,  テルル化物 ,  電気抵抗率 ,  *トポロジカル絶縁体
準シソーラス用語： 物性評価

分類 (2件)： その他の無機化合物の結晶成長  (BK13060T) ,  その他の無機化合物の磁性  (BM06060P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 磁性 ,  元素 ,  ドープ ,  トポロジカル絶縁体 ,  単結晶 ,  物性評価