文献

J-GLOBAL ID：201302234725016218   整理番号：13A0851699

ノボラック系ポジ型レジストにおける溶解抑制剤のエステル化率とリソグラフィー特性との関係

著者 (9件)： 齊藤誠二 (金沢工大) ,  松田卓也 (金沢工大) ,  石黒啓太 (金沢工大) ,  高橋聖司 (金沢工大) ,  河野昭彦 (金沢工大) ,  関口淳 (リソテックジャパン) ,  谷口克人 (AZエレクトロニックマテリアルズ) ,  田中初幸 (AZエレクトロニックマテリアルズ) ,  堀邊英夫 (金沢工大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 60th  ページ： ROMBUNNO.28P-B2-8  発行年： 2013年03月11日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ノボラック ,  *レジスト ,  エステル化 ,  *リソグラフィー ,  液晶ディスプレイ ,  溶解 ,  抑制剤
準シソーラス用語： *ポジ型レジスト

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： ノボラック ,  ポジ型レジスト ,  溶解 ,  抑制剤 ,  エステル化率 ,  リソグラフィー