文献

J-GLOBAL ID：201302242113726162   整理番号：13A1758783

広角X線回折測定を用いた結晶性ポリイミドの超高圧印加による秩序構造変化の解析

著者 (4件)： 滝沢和宏 (東京工大 大学院) ,  福留浩志 (東京工大 大学院) ,  小崎友紀子 (東京工大 大学院) ,  安藤慎治 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 62  号： 2  ページ： ROMBUNNO.1M13  発行年： 2013年08月28日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 結晶性高分子 ,  *PMDAポリイミド ,  PMDA-ODA ,  *X線回折 ,  超高圧 ,  凝集 ,  結晶構造 ,  高分子薄膜 ,  圧力効果 ,  配座転移 ,  芳香族アミン ,  ジアミン ,  第一アミン ,  芳香族カルボン酸 ,  酸素複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  カルボン酸無水物 ,  広角X線回折

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (4件)： 1,4-フェニレンジアミン ,  ピロメリト酸二無水物 ,  ベンジジン ,  1,1′:4′,1′′-テルベンゼン-4,4′′-ジアミン

タイトルに関連する用語 (7件)： 広角X線回折 ,  結晶性ポリ ,  イミド ,  超高圧 ,  印加 ,  秩序構造 ,  解析