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J-GLOBAL ID：201302246037922246   整理番号：13A1760300

環状オリゴマーを基板とする1Xnm級の解像性を有する極端紫外線レジスト材料の開発

著者 (7件)： 松原周平 (関西大 大学院) ,  工藤宏人 (関西大 大学院) ,  林田佑美 (関西大 大学院) ,  江村和也 (兵庫県大 大学院) ,  渡邊健夫 (兵庫県大 大学院) ,  原田哲男 (兵庫県大 大学院) ,  木下博雄 (兵庫県大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 62  号： 2  ページ： ROMBUNNO.3R12  発行年： 2013年08月28日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： オリゴマ ,  大環状化合物 ,  基板 ,  分解能 ,  *極端紫外線 ,  材料 ,  *フォトレジスト ,  微細加工 ,  技術 ,  リソグラフィー ,  表面粗さ ,  はしご状重合体 ,  光脱離 ,  基 ,  感度 ,  汚染物質 ,  気体 ,  Noria ,  アウトガス ,  微細加工技術 ,  保護基
準シソーラス用語： レジスト材料 ,  解像度 ,  *環状オリゴマ ,  光感度 ,  紫外線リソグラフィー ,  線幅粗さ

分類 (3件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

物質索引 (1件)： ピラー[5]アレーン

タイトルに関連する用語 (6件)： 環状 ,  オリゴマー ,  解像性 ,  極端紫外線 ,  レジスト材料 ,  開発