文献

J-GLOBAL ID：201302259498790095   整理番号：13A0851250

SiO₂マスクを用いた量子井戸無秩序化における多重量子井戸のバンドギャップ波長変化

著者 (8件)： 山原佳晃 (東京工大) ,  二見充輝 (東京工大) ,  LEE Jieun (東京工大) ,  進藤隆彦 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ) ,  雨宮智宏 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ) ,  西山伸彦 (東京工大) ,  荒井滋久 (東京工大) ,  荒井滋久 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 60th  ページ： ROMBUNNO.27P-PA2-20  発行年： 2013年03月11日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *多重量子井戸 ,  *バンドギャップ ,  スペクトルシフト ,  *秩序無秩序転移 ,  二酸化ケイ素 ,  フォトマスク ,  *半導体薄膜 ,  *光集積回路 ,  相互接続 ,  マスク
準シソーラス用語： 光配線 ,  無秩序化

分類 (3件)： 半導体結晶の電子構造  (BM02060N) ,  半導体薄膜  (BK14040E) ,  光集積回路,集積光学  (BD06050D)

タイトルに関連する用語 (7件)： SiO2 ,  マスク ,  量子井戸 ,  無秩序化 ,  多重量子井戸 ,  バンドギャップ ,  波長