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J-GLOBAL ID：201302260253627081   整理番号：13A1759494

フォトクロミックナフタセンキノンデンドリマー薄膜の光誘起表面レリーフ形成

著者 (6件)： 植島智美 (大分大 工) ,  河野尚洋 (大分大 工) ,  内田裕也 (大分大 工) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  関隆広 (名大 院) ,  守山雅也 (大分大 工)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 62  号： 2  ページ： ROMBUNNO.2I12  発行年： 2013年08月28日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *回折格子 ,  表面性状 ,  *フォトクロミズム ,  *デンドリマ ,  高分子薄膜 ,  自己組織化 ,  紫外線照射 ,  *芳香族縮合炭化水素 ,  光異性化 ,  非晶質 ,  薄膜 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  パターン形成 ,  可逆変化 ,  光応答性高分子 ,  キノン ,  デンドロン ,  *ナフタセン類 ,  非晶質薄膜 ,  ミクロパターン形成
準シソーラス用語： 微細パターン形成 ,  *表面レリーフ回折格子

分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： 6,11-ビス[4′-[3,4,5-トリス(ドデシルオキシ)フェノキシ]-1,1′-ビフェニル-4-イルオキシ]ナフタセン-5,12-ジオン

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  光誘起 ,  表面レリーフ