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J-GLOBAL ID：201302264859081942   整理番号：13A0851465

NdNiO₂エピタキシャル薄膜の作製と物性評価

著者 (10件)： 小野塚智也 (東大 理) ,  近松彰 (東大 理) ,  近松彰 (JST-CREST) ,  片山司 (東大 理) ,  重松圭 (東大 理) ,  福村知昭 (東大 理) ,  福村知昭 (JST-CREST) ,  長谷川哲也 (東大 理) ,  長谷川哲也 (JST-CREST) ,  長谷川哲也 (KAST)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 60th  ページ： ROMBUNNO.28A-F2-6  発行年： 2013年03月11日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ニッケル酸塩 ,  *ネオジム化合物 ,  レーザ蒸着 ,  *エピタクシー ,  カルシウム化合物 ,  水素化物 ,  還元 ,  X線回折 ,  点欠陥 ,  *単結晶 ,  ペロブスカイト型結晶 ,  優先配向 ,  電気伝導率 ,  パルスレーザ蒸着 ,  水素化カルシウム ,  酸素欠陥
準シソーラス用語： 酸素欠損

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

タイトルに関連する用語 (4件)： エピタキシャル ,  薄膜 ,  作製 ,  物性評価