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J-GLOBAL ID:201302270495977201   整理番号:13A0822851

パルスCO2レーザを用いたガラス微細穴形成技術

著者 (7件):
資料名:
巻: 2013  号: 春季(CD-ROM)  ページ: ROMBUNNO.I45  発行年: 2013年02月27日 
JST資料番号: Y0914A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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次世代基板用材料としてガラスが注目を集めている。ガラス基板の実用化には,電気的導通を確保するための貫通穴の形成が必要である。従来ガラスへのレーザ微細加工技術は,UVレーザを中心に開発が進められてきた。一方,産業界での実績に優れたCO2レーザが適用できれば,高生産性,コストメリットが期待できる。本報では,パルスCO2レーザを使用したガラス材料への高速微細穴形成技術について報告する。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (3件):
分類
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固体デバイス材料  ,  固体デバイス製造技術一般  ,  ガラスの製造 
タイトルに関連する用語 (4件):
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