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J-GLOBAL ID：201302271246507765   整理番号：13A0903746

分子不斉なロタキサンモノマーから合成したフェニルアセチレン系ポリマーの構造特性

著者 (5件)： 塩崎七央 (東京工大 大学院) ,  石割文崇 (東京工大 大学院) ,  中薗和子 (東京工大 大学院) ,  小山靖人 (東京工大 大学院) ,  高田十志和 (東京工大 大学院)
資料名： シンポジウム「モレキュラー・キラリティー」講演要旨集  (シンポジウム モレキュラー・キラリティー要旨集)
巻： 2012  ページ： (JA)60,(EN)59  発行年： 2012年05月17日 
JST資料番号： L2525A  ISSN： 1881-0861  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリフェニルアセチレン ,  *側鎖 ,  *ロタキサン ,  *光学異性 ,  光学活性 ,  光学活性高分子 ,  ヘリックス構造 ,  制御 ,  共重合 ,  *円偏光二色スペクトル ,  紫外吸収スペクトル ,  分子構造 ,  不斉反応 ,  構造制御 ,  不斉増幅
準シソーラス用語： 光学活性ロタキサン

分類 (1件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

タイトルに関連する用語 (4件)： 分子 ,  フェニルアセチレン ,  ポリマー ,  構造特性