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J-GLOBAL ID:201302276401398147   整理番号:13A0827967

拡散バリア層を有するシリコン量子ドット超格子太陽電池の電気特性の改善

Improvement of Electrical Properties of Silicon Quantum Dot Superlattice Solar Cells with Diffusion Barrier Layers
著者 (4件):
資料名:
巻: 52  号: 4,Issue 2  ページ: 04CR02.1-04CR02.4  発行年: 2013年04月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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著者らは,シリコン量子ドット超格子太陽電池(Si-QDSL)の性能に及ぼす,ニオブ添加酸化チタン(TiO2:Nb)拡散障壁層の効果を調べた。厚さが2nmのTiO2:Nb層の挿入により,900°Cでの熱処理時の,高度ドープn型層からSi-QDSL層へのリン(P)拡散を,有意に抑制することができた。TiO2:Nb拡散バリア層を有する太陽電池のSi-QDSL中のP濃度は1018cm-3より小さく,拡散障壁層が存在しない場合に比べ約2桁低かった。P濃度の低減は,Si-QDSL層中の光誘起キャリア収集の改善をもたらす。拡散障壁層を有する太陽電池の短絡電流密度を,無負荷電圧および充填率の劣化を招くことなく,1.6mA/cm2に劇的に改善した。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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太陽電池  ,  半導体薄膜 
引用文献 (27件):
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