文献

J-GLOBAL ID：201302291884773171   整理番号：13A1760203

主鎖に屈曲構造を有するポリイミドの超高圧印加による光学物性・凝集状態変化

著者 (3件)： 福留浩志 (東京工大 大学院) ,  滝沢和宏 (東京工大 大学院) ,  安藤慎治 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 62  号： 2  ページ： ROMBUNNO.3G06  発行年： 2013年08月28日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *BPDAポリイミド ,  構造異性体 ,  芳香族ポリイミド ,  屈曲度 ,  光学的性質 ,  凝集体 ,  超高圧 ,  プロトン移動 ,  発光 ,  蛍光発光 ,  励起状態分子内プロトン移動
準シソーラス用語： ESIPT ,  屈曲性

分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  その他の高分子材料  (YH07150C)

物質索引 (2件)： メチレンビス(p-フェニレン)ジアミン ,  4,4′-メチレンビス(シクロヘキサン-1-アミン)

タイトルに関連する用語 (8件)： 主鎖 ,  屈曲 ,  ポリイミド ,  超高圧 ,  印加 ,  光学 ,  物性 ,  凝集