文献

J-GLOBAL ID：201302299948014874   整理番号：13A1917506

炭化ケイ素薄膜表面への炭素潤滑層の形成

著者 (3件)： 青野祐子 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  西尾龍哉 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  平田敦 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： ダイヤモンドシンポジウム講演要旨集
巻： 27th  ページ： 150-151  発行年： 2013年11月19日 
JST資料番号： L1241A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *炭化ケイ素 ,  セラミック膜 ,  炭素 ,  熱処理 ,  摩擦係数 ,  *潤滑

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 炭化 ,  ケイ素薄膜 ,  炭素 ,  潤滑