特許
J-GLOBAL ID:201303035150767535

プラズマ制御方法およびプラズマ制御装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝 ,  鈴木 健之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-226378
公開番号(公開出願番号):特開2013-089331
出願日: 2011年10月14日
公開日(公表日): 2013年05月13日
要約:
【課題】対象物に対する最適なプラズマの照射状態を得ることができるプラズマ制御方法およびこの制御方法を用いてコストパフォーマンスに優れ、所望の照射条件で対象物に対して高精度で再現性よくプラズマ照射することができるプラズマ制御装置を提供することを目的とする。【解決手段】プラズマを対象物に対して照射する場合に、前記プラズマの状態を制御するプラズマ制御方法において、前記対象物の状態を検出して前記対象物の状態の情報を取得し、前記対象物の状態の情報をフィードバックするとともに、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマの状態を制御するプラズマ制御方法およびこれを用いたプラズマ制御装置。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
プラズマを対象物に対して照射する場合に、前記プラズマの状態を制御するプラズマ制御方法において、 前記対象物の状態を検出して前記対象物の状態の情報を取得し、 前記対象物の状態の情報をフィードバックするとともに、前記対象物の状態の情報に基づいて前記プラズマの状態を制御することを特徴とするプラズマ制御方法。
IPC (1件):
H05H 1/24
FI (1件):
H05H1/24
引用特許:
審査官引用 (8件)
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