特許
J-GLOBAL ID：201303046775744063
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置並びにプラズマ処理を施した長尺物
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
中尾 俊輔
, 伊藤 高英
, 畑中 芳実
, 大倉 奈緒子
, 玉利 房枝
, 鈴木 健之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-237324
公開番号（公開出願番号）：特開2013-097904
出願日： 2011年10月28日
公開日（公表日）： 2013年05月20日
要約：
【課題】長尺状の被処理物の表面に満遍なく均一に表面処理が可能なプラズマ処理方法およびこのプラズマ処理方法を用い、操作性に優れたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】第1筒状部2の長手方向に配設された複数個の円盤状のガイド部材5aからなるガイド部が設けられている。ガイド部材5aには、厚さ方向に貫通した少なくとも1つ以上の支持孔5cが形成されている。支持孔5cに長尺状の被処理物Wを通して支持し、プラズマの密度が高い領域、すなわち、第1筒状部2の内壁近傍へガイドするようにされている。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
長尺状の被処理物に対してプラズマを接触させることによりプラズマ処理を施すプラズマ処理方法において、
前記プラズマには、密度分布にバラツキがあり、
前記長尺状の被処理物を、前記プラズマの密度が高い領域を選択的に通過させながら前記長尺状の被処理物にプラズマ処理を施すことを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (3件)：
H05H 1/24
, D06M 10/02
, C08J 7/00
H05H1/24
, D06M10/02 C
, C08J7/00 306
, C08J7/00
4F073AA01
, 4F073BA07
, 4F073BA08
, 4F073BA14
, 4F073BA15
, 4F073BA18
, 4F073BA24
, 4F073BA28
, 4F073BA29
, 4F073BB01
, 4F073CA01
, 4L031AA11
, 4L031AB01
, 4L031AB21
, 4L031CB05
, 4L031DA12
, 4L031DA21
