特許

J-GLOBAL ID：201303049867444111

微細パターン複製物の作製方法

発明者： 藤平 正道 ,  秋葉 宇一 ,  奥井 博貴 ,  藤井 慎太郎 ,  栗原 正彰
出願人/特許権者： 藤平 正道 ,  大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 土井 育郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-249403
公開番号（公開出願番号）：特開2011-084068
特許番号：特許第4762361号
出願日： 2010年11月08日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 表面に凸状パターンを有する版に樹脂をコーティングし、その樹脂を前記版から剥離することにより前記樹脂からなる判子を作製し、疎水性分子を分散させてなる疎水性分子インクを前記判子に付着させ、その分子インクの付着した判子を用いて基板上に疎水性分子の層からなる微細パターンを形成し、前記微細パターンの周囲の基板面に親水性分子を分散させてなる親水性分子インクに浸漬することにより化学修飾を施す微細パターン複製物の作製方法において、前記微細パターンの形成後に、基板上に微細パターンを形成したものを水中に浸漬し、微細パターンを構成する疎水性分子同士を疎水結合させて疎水性分子同士を集合せしめてから、水中で微細パターンの周囲の基板面に前記親水性分子インクによる化学修飾を施すことを特徴とする微細パターン複製物の作製方法。

IPC (2件)：

B41M 3/06 ( 200 6.01) ,  B41M 1/02 ( 200 6.01)

FI (2件)：

B41M 3/06 ZNM Z ,  B41M 1/02

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 微細パターン複製物の作製方法及び複製物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-116468   出願人：藤平正道, 大日本印刷株式会社