特許

J-GLOBAL ID：201303067468050027

自己組織化単分子膜形成用の化合物及びそれを用いた有機半導体素子

発明者： 竹谷 純一 ,  岡本 敏宏 ,  植村 隆文
出願人/特許権者： 国立大学法人大阪大学
代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-177539
公開番号（公開出願番号）：特開2013-040124
出願日： 2011年08月15日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
要約：

【課題】大気中での接触角の経時変化が少ない自己組織化単分子膜を基板表面に形成して、良好な特性を有する有機半導体層を再現性よく形成することを可能とする。【解決手段】有機半導体層を形成する溶液に対する良好なぬれ性を基板表面に与える自己組織化単分子膜を形成するための化合物であって、下記の化学式(1)で表される構造を有する。ただし、化学式(1)中、n=1または8、R1はアルキル基、R2及びR3はそれぞれ水素、アルキル基またはアリール基から選ばれた一種であって、R2=R3=Hの場合を除く。 【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

有機半導体層を形成する溶液に対する良好なぬれ性を基板表面に与える自己組織化単分子膜を形成するための化合物であって、下記の化学式(1)で表される構造を有する自己組織化単分子膜形成用の化合物。 ただし、化学式(1)中、n=1または8、R1はアルキル基、R2及びR3はそれぞれ水素、アルキル基またはアリール基から選ばれた一種であって、R2=R3=Hの場合を除く。

IPC (5件)：

C07F 7/10 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/30 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336

FI (5件)：

C07F7/10 C ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 280 ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 618A

Fターム (28件)：

4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ35 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VS21 ,  4H049VT17 ,  4H049VT38 ,  4H049VT45 ,  4H049VT46 ,  4H049VT48 ,  4H049VU22 ,  4H049VW02 ,  5F110AA01 ,  5F110AA08 ,  5F110AA16 ,  5F110AA28 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110EE08 ,  5F110FF02 ,  5F110GG05 ,  5F110GG06 ,  5F110GG42 ,  5F110GG57 ,  5F110HK02