特許
J-GLOBAL ID：201303080613696760
プロトン伝導膜およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-258435
公開番号（公開出願番号）：特開2006-310253
特許番号：特許第4997438号
出願日： 2005年09月06日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】シラノール基を表面に有する空孔構造を有するプロトン伝導膜の製造方法であって、シリカ前駆体と分散微粒子を含む組成物を、加水分解してゲル化させた後、前記分散微粒子を、ゲルが有するシラノール基が失われない方法にて除去することによって、前記空孔構造を形成する工程を含み、
前記分散微粒子の除去は、プラズマ処理またはオゾン処理によって行う、プロトン伝導膜の製造方法。
IPC (4件)：
H01M 8/02 ( 200 6.01)
, H01M 8/10 ( 200 6.01)
, H01B 1/06 ( 200 6.01)
, H01B 13/00 ( 200 6.01)
H01M 8/02 P
, H01M 8/10
, H01B 1/06 A
, H01B 13/00 Z
