特許
J-GLOBAL ID：200903094961864127

ナノ材料の製造方法およびナノ材料

発明者：
藤川 茂紀

藤川 茂紀 について

, 
国武 豊喜

国武 豊喜 について


出願人/特許権者：
独立行政法人理化学研究所

独立行政法人理化学研究所 について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-032280
公開番号（公開出願番号）：特開2004-351608
出願日： 2004年02月09日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：
【課題】 鋳型を用いた3次元ナノ構造体の製造方法およびナノ材料の提供。【解決手段】 固体基材上にリソグラフィー法により鋳型を形成する工程と、形成された鋳型上に金属酸化物薄膜または有機/金属酸化物複合薄膜を形成する工程と、形成された鋳型を除去して金属酸化物ナノ構造体または有機/金属酸化物複合ナノ構造体を形成する工程とを有するナノ材料の製造方法、または固体基材上にリソグラフィー法により鋳型を形成する工程と、形成された鋳型上に高分子薄膜を形成する工程と、形成された高分子薄膜上に金属酸化物薄膜または有機/金属酸化物複合薄膜を形成する工程と、形成された高分子薄膜または鋳型および高分子薄膜を除去して金属酸化物ナノ構造体または有機/金属酸化物複合ナノ構造体を形成する工程とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
固体基材上にリソグラフィー法により鋳型を形成する工程と、形成された鋳型上に金属酸化物薄膜または有機/金属酸化物複合薄膜を形成する工程と、形成された鋳型を除去して金属酸化物ナノ構造体または有機/金属酸化物複合ナノ構造体を形成する工程とを有するナノ材料の製造方法。
IPC (3件)：
B82B3/00 ,  B81C1/00 ,  C01G23/047
FI (3件)：
B82B3/00 ,  B81C1/00 ,  C01G23/047
Fターム (10件)：
4G047CA02 ,  4G047CB06 ,  4G047CD05 ,  4G072AA25 ,  4G072BB04 ,  4G072GG03 ,  4G072HH28 ,  4G072LL15 ,  4G072MM36 ,  4G072RR25
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示
引用文献：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM