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J-GLOBAL ID：201402217068165262   整理番号：14A1099188

ラマン分光法による高温スパッタ堆積MoS₂膜の評価

著者 (8件)： 石原聖也 (明治大) ,  須田耕平 (明治大) ,  澤本直美 (明治大) ,  大橋匠 (東京工大) ,  山口晋平 (東京工大) ,  松浦賢太朗 (東京工大) ,  若林整 (東京工大) ,  小椋厚志 (明治大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 75th  ページ： ROMBUNNO.18P-B3-5  発行年： 2014年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *硫化モリブデン ,  Raman分光法 ,  積層材料 ,  層状化合物 ,  スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  蒸着膜 ,  半導体薄膜 ,  *Ramanスペクトル ,  膜厚 ,  スペクトルシフト
準シソーラス用語： 層状材料 ,  *RFマグネトロンスパッタリング

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル  (BM08066B)

タイトルに関連する用語 (4件)： ラマン分光法 ,  スパッタ堆積 ,  MoS2 ,  評価