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J-GLOBAL ID：201402220745961047   整理番号：14A0479074

GaFeO₃型Al_xFe_2-xO₃薄膜の作製と磁気特性

著者 (5件)： 浜嵜容丞 (東京工大) ,  清水荘雄 (東京工大) ,  安井伸太郎 (東京工大) ,  谷山智康 (東京工大) ,  伊藤満 (東京工大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2014  ページ： ROMBUNNO.1P070  発行年： 2014年03月07日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *アルミニウム化合物 ,  *鉄化合物 ,  *酸化物 ,  *蒸着膜 ,  チタン酸ストロンチウム ,  レーザ蒸着 ,  エピタクシー ,  磁気的性質 ,  保磁力 ,  温度依存性 ,  材料 ,  *セラミック被覆 ,  結晶構造 ,  パルスレーザ蒸着 ,  マルチフェロイック材料
準シソーラス用語： ガリウムフェライト型結晶

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  作製 ,  磁気特性