文献

J-GLOBAL ID：201402236094502778   整理番号：14A0085882

室温における液晶の近ゼロ方位アンカリングに対する表面を提供する高密度ポリメタクリル酸ヘキシルブラシ

High-density poly(hexyl methacrylate) brushes offering a surface for near-zero azimuthal anchoring of liquid crystals at room temperature

著者 (8件)： SATO Osamu (LG Display Co., Ltd., Tokyo, JPN) ,  KASAI Takahiro (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  SATO Misa (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  SAKAJIRI Koichi (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  TSUJII Yoshinobu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  KANG Sungmin (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  WATANABE Junji (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  TOKITA Masatoshi (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 1  号： 48  ページ： 7992-7995  発行年： 2013年12月28日 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 液晶分子はT<T_g(ガラス転移温度)で高分子表面に対して強くアンカリングし,一方,T>T_gで分子はアラインメント場が回転する。しかるに,室温よりも十分に低いT_gを有する高分子は室温で近ゼロ方位アンカリング面を提供する。この点を調べるためポリメタクリル酸ヘキシル(PHMA)グラフト化櫛形ITO電極基板を有する液晶セルを構築した。PHMAのT_gは-5°Cであって室温よりもはるかに低い。液晶セルは配向挙動と電圧-温度性質を示し,PHMAに対する液晶アンカリングエネルギーが通常のラビングポリイミド基板に対するアンカリングエネルギーよりも十分低いことを指示した。

シソーラス用語： *ポリメタクリル酸アルキル ,  *高分子ブラシ ,  アンカリング【液晶】 ,  方位角 ,  *ネマチック相 ,  室温 ,  化学修飾 ,  櫛形 ,  電極 ,  *液晶ディスプレイ ,  *アラインメント ,  分子回転 ,  ガラス転移点 ,  酸化インジウムスズ ,  ラビング ,  高分子薄膜 ,  ポリイミド ,  電圧依存性 ,  相転移 ,  光学画像 ,  温度依存性 ,  偏光顕微鏡 ,  グラフト化【化学修飾】 ,  ポリイミド薄膜 ,  液晶相転移 ,  閾値電圧
準シソーラス用語： ITO ,  ITO電極 ,  ガラス転移温度 ,  グラフト化 ,  ネマチック液晶 ,  液晶セル ,  櫛形電極 ,  光学像 ,  等方相

分類 (3件)： ネマチック相  (BK03020W) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  表示機器  (NC06030Q)

タイトルに関連する用語 (6件)： 室温 ,  液晶 ,  方位 ,  アンカリング ,  メタクリル酸ヘキシル ,  ブラシ