文献

J-GLOBAL ID：201402236424250665   整理番号：14A0710212

赤外分光法によるフェノキシ樹脂の熱劣化評価

著者 (3件)： 田中千裕 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  青木才子 (東京工大 大学院理工学研究科) ,  久保内昌敏 (東京工大 大学院理工学研究科)
資料名： 日本材料科学会学術講演大会講演予稿集  (日本材料科学会主催学術講演大会講演予稿集)
巻： 2014  ページ： 66-67  発行年： 2014年06月06日 
JST資料番号： L5505A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フェノキシ樹脂 ,  *熱劣化 ,  空気 ,  *分子構造 ,  *赤外分光法 ,  質量 ,  残留性 ,  *ピーク値 ,  強度 ,  *カルボニル基 ,  *化学結合 ,  エーテル ,  余寿命 ,  *エーテル結合 ,  *ピーク強度 ,  化学構造
準シソーラス用語： 残存率

分類 (2件)： 抵抗性  (YH02050K) ,  エポキシ樹脂  (YH07040I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 赤外分光法 ,  フェノキシ樹脂 ,  熱劣化 ,  評価