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J-GLOBAL ID：201402243290575038   整理番号：14A0161419

PLD法によるCaMoO₄エピタキシャル薄膜の作製と発光特性

著者 (5件)： 太宰卓朗 (東京工大 応用セラミックス研) ,  浜嵜容丞 (東京工大 応用セラミックス研) ,  安井伸太郎 (東京工大 応用セラミックス研) ,  谷山智康 (東京工大 応用セラミックス研) ,  伊藤満 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： セラミックス基礎科学討論会講演要旨集  (セラミックス基礎科学討論会講演予稿集)
巻： 52nd  ページ： 242  発行年： 2014年01月09日 
JST資料番号： L1357A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 蛍光体 ,  *エレクトロルミネセンス ,  カルシウム化合物 ,  *モリブデン酸塩 ,  薄膜 ,  *レーザ蒸着 ,  Nd-YAGレーザ ,  基板 ,  格子定数 ,  *微細構造 ,  結晶構造 ,  *光学的性質 ,  アルミン酸塩 ,  マグネシウム化合物 ,  セラミック ,  酸化イットリウム ,  酸化ジルコニウム ,  チタン酸ストロンチウム ,  パルスレーザ蒸着 ,  モリブデン酸カルシウム ,  エピタキシャル膜 ,  アルミン酸マグネシウム ,  YSZ【セラミック】
準シソーラス用語： 薄膜エレクトロルミネセンス ,  PLD【蒸着】 ,  微細組織

分類 (2件)： 発光素子  (NC03082G) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (5件)： PLD法 ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  作製 ,  発光特性