抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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キラル共役系高分子は,らせん構造によるナノインダクタやキラル分子との相互作用を利用した新機能発現など,電子・光機能性材料として期待される。しかし,キラル性の導入に必要となる触媒が不純物となる可能性があり,不斉触媒を用いないキラル導入がデバイス応用における課題であった。我々はこのような背景のもと,新規なキラル高分子の作製手法として円偏光重合に注目し,アキラルなモノマーから実際にキラル性を有するポリジアセチレンの合成に成功した。ただ,実際の応用に際しては,より大きなキラル性の誘起や新規な重合プロセスなど,検討すべき課題も多い。本発表では,より微細な構造形成が可能な重合プロセスとして多光子過程に着目し,円偏光多光子吸収によるキラル性誘起を検討する。紫外域のみに吸収ピークを持つジアセチレンモノマーは,可視光照射では重合が進行しないが,波長650nmと710nmのパルスレーザーを照射することで重合の進行を確認した。通常の光重合では光強度に対して線形に吸収量が増加するが,ここではα=I
2.7程度の強度依存性を持ち,三光子過程が支配的であることが明らかとなった。このことは,モノマーの吸収ピーク位置と,照射レーザーの波長との官界からも理解できる。(著者抄録)