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J-GLOBAL ID：201402260758582500   整理番号：14A1098041

GaFeO₃型In_0.25Fe_1.75O₃マルチフェロイック薄膜の作製と特性評価

著者 (4件)： 浜嵜容丞 (東京工大 応用セラミックス研) ,  安井伸太郎 (東京工大 応用セラミックス研) ,  谷山智康 (東京工大 応用セラミックス研) ,  伊藤満 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 75th  ページ： ROMBUNNO.17P-PA4-1  発行年： 2014年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *強誘電体 ,  *磁性体 ,  磁性薄膜 ,  *酸化鉄 ,  *ガリウム化合物 ,  気相成長 ,  キャラクタリゼーション ,  強誘電体薄膜 ,  *磁性強誘電体
準シソーラス用語： *マルチフェロイック

分類 (4件)： 強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： マルチフェロイック ,  薄膜 ,  作製 ,  特性評価