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J-GLOBAL ID：201402276526519938   整理番号：14A0372302

SiO₂保護膜を導入した量子井戸無秩序化におけるバンドギャップ波長変化

著者 (8件)： LEE Jieun (東京工大) ,  土居恭平 (東京工大) ,  平谷拓生 (東京工大) ,  井上大輔 (東京工大) ,  雨宮智宏 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ) ,  西山伸彦 (東京工大) ,  荒井滋久 (東京工大) ,  荒井滋久 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 61st  ページ： ROMBUNNO.20P-F8-8  発行年： 2014年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 酸化ケイ素 ,  保護膜 ,  *量子井戸 ,  変化 ,  *バンドギャップ ,  化合物半導体 ,  光ルミネセンス ,  III-V半導体
準シソーラス用語： 無秩序化 ,  フォトルミネセンス

分類 (2件)： 結晶中の局在電子構造  (BM02090U) ,  光集積回路,集積光学  (BD06050D)

タイトルに関連する用語 (6件)： SiO2 ,  保護膜 ,  量子井戸 ,  無秩序化 ,  バンドギャップ ,  波長