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J-GLOBAL ID：201402296396742240   整理番号：14A1166892

Si基板上導波路集積型GaInAsP/InP半導体薄膜分布帰還レーザ

著者 (8件)： 井上大輔 (東京工大) ,  LEE Jieun (東京工大) ,  平谷拓生 (東京工大) ,  厚地祐輝 (東京工大) ,  雨宮智宏 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ) ,  西山伸彦 (東京工大) ,  荒井滋久 (東京工大) ,  荒井滋久 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ)
資料名： 電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM)  (電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集(CD-ROM))
巻： 2014  号： ソサイエティ大会  ページ： ROMBUNNO.C-4-14  発行年： 2014年09月09日 
JST資料番号： G0508B  ISSN： 1349-144X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ウエハ【IC】 ,  *ヒ化リン化インジウムガリウム ,  *リン化インジウム ,  *半導体レーザ ,  薄膜 ,  *分布帰還形レーザ ,  *配線 ,  溶接継手 ,  結晶成長 ,  *光導波路 ,  半導体プロセス ,  室温 ,  連続操作 ,  *スペクトル ,  波長依存性 ,  *出力 ,  注入レーザ ,  依存性 ,  放射強度 ,  *光集積回路 ,  *発光スペクトル ,  *光出力 ,  再成長 ,  シリコンウエハ ,  突合せ継手
準シソーラス用語： Si基板 ,  バットジョイント ,  *光配線 ,  電流依存性 ,  連続動作

分類 (2件)： 光集積回路,集積光学  (BD06050D) ,  半導体レーザ  (BD04070L)

タイトルに関連する用語 (9件)： Si基板 ,  導波路 ,  集積 ,  GaInAsP ,  InP ,  半導体薄膜 ,  分布 ,  帰還 ,  レーザ