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J-GLOBAL ID：201402297386009290   整理番号：14A0161134

3次元光インターコネクトに向けた金属ミラー付き層間グレーティングカプラ

Metal mirror assisted grating couplers between multilayered waveguides toward 3D optical interconnects

著者 (9件)： KANG JoonHyun (東京工大) ,  渥美裕樹 (東京工大) ,  林侑介 (東京工大) ,  鈴木純一 (東京工大) ,  久能雄輝 (東京工大) ,  雨宮智宏 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ) ,  西山伸彦 (東京工大) ,  荒井滋久 (東京工大) ,  荒井滋久 (東京工大 量子ナノエレクトロニクス研究セ)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 113  号： 370(OPE2013 138-147)  ページ： 25-30  発行年： 2013年12月13日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリコンフォトニクスによる光インターコネクトは多層構造を導入することで更なる高伝送密度化が可能である。本研究では多層間の信号伝送用構造として採用しているグレーティングカプラの上下を金属ミラーで挟むことにより,1回の回折格子結合では捕捉しきれない成分を反射させることによる高効率結合化を目指した。3次元FDTDを用いて構造設計を行った結果,金属ミラーを用いない場合の約3倍となる結合効率90%が見積もられた。作製プロセスはa-Si:Hをコアとする導波路形成を含めすべて300°C以下で行い,回折格子周期数20の素子で結合効率83%が得られた。(著者抄録)

シソーラス用語： *格子構造 ,  方向性結合器 ,  多層構造 ,  信号伝送 ,  *相互接続 ,  有限差分時間領域法 ,  *三次元 ,  鏡 ,  *回折格子 ,  オプトエレクトロニクス ,  伝送速度 ,  アモルファスシリコン ,  水素化物 ,  *光導波路 ,  シリコンフォトニクス ,  水素化アモルファスシリコン
準シソーラス用語： *光配線 ,  a-Si:H

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (3件)： 3次元 ,  インターコネクト ,  ミラー