特許

J-GLOBAL ID：201403026118878838

光導波路及びその製造方法

発明者： 埜口 良二 ,  堀川 剛 ,  三浦 真
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 塩田 伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-180026
公開番号（公開出願番号）：特開2014-038183
出願日： 2012年08月15日
公開日（公表日）： 2014年02月27日
要約：

【課題】アッパークラッド層に空洞が発生することなく、光の伝搬損失を低減可能な光導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光導波路の製造方法は、光導波路コアが形成されたアンダークラッド層の面上にCVD法によりクラッド材を堆積させ、アッパークラッド層を形成するアッパークラッド層形成工程と、異方性のドライエッチングにより前記アッパークラッド層を残層状態のエッチング深さでエッチングし、前記光導波路コアの側面に前記アンダークラッド層から前記光導波路コアを覆うように立ち上がり前記光導波路コアの上面に向けて弧状に湾曲する湾曲面を有するサイドウォールが形成された前記アッパークラッド層の残層を形成するエッチング工程と、前記CVD法により前記残層上に前記クラッド材を堆積させ、厚みが追加された前記アッパークラッド層を形成するアッパークラッド層追加形成工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】図2(c)

請求項（抜粋）：

クラッド材で被覆された光導波路コアを有する光導波路の製造方法であって、 断面凸状の光導波路コアが形成されたアンダークラッド層の面上にCVD法により前記クラッド材を堆積させ、前記光導波路コアの側面及び上面が被覆されるように前記アンダークラッド層上にアッパークラッド層を形成するアッパークラッド層形成工程と、 異方性のドライエッチングにより前記アッパークラッド層を残層状態のエッチング深さでエッチングし、前記光導波路コアの側面に前記アンダークラッド層から前記光導波路コアを覆うように立ち上がり前記光導波路コアの上面に向けて弧状に湾曲する湾曲面を有し、周辺の残層より厚膜のサイドウォールが形成された前記アッパークラッド層の残層を形成するエッチング工程と、 前記CVD法により前記アッパークラッド層の残層上に前記クラッド材を堆積させ、厚みが追加された前記アッパークラッド層を形成するアッパークラッド層追加形成工程と、 を含むことを特徴とする光導波路の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/122 ,  G02B 6/13

FI (2件)：

G02B6/12 A ,  G02B6/12 M

Fターム (7件)：

2H147EA13A ,  2H147EA13B ,  2H147EA14A ,  2H147EA14B ,  2H147FA03 ,  2H147FC03 ,  2H147GA19